10月15日，據(jù)國外媒體報道，目前全球頂尖的光刻機生產(chǎn)商ASML正在研發(fā)第三款EUV光刻機，并計劃于明年年中出貨。 從其所公布的信息來看，新款光刻機型號命名為TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:00
4299 對于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機。 ? 然而，當(dāng)這些來自
2022-07-22 07:49:003666 推動科技進步的半導(dǎo)體技術(shù)真的會停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節(jié)點將開始應(yīng)用EUV光刻工藝，研發(fā)EUV光刻機的ASML表示EUV工藝將會支持未來15年，部分客戶已經(jīng)在討論2030年的1.5nm工藝路線圖了。
2017-01-22 11:45:423754 極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:541996 
本土晶圓代工企業(yè)崛起之際，設(shè)備進口議題備受關(guān)注。光刻機龍頭ASML近日表示，從荷蘭向中國出口DUV光刻機無需許可證。
2020-10-16 10:24:212845 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/李彎彎）據(jù)外媒報道，SK海力士希望在中國工廠無錫使用EUV光刻機，提高存儲芯片的生產(chǎn)效率，然而該工廠升級改造計劃卻遇到極大阻礙，因為美國官員不允許SK海力士將ASML 的EUV
2021-11-24 09:28:345812 作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4113656 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）到了3nm這個工藝節(jié)點之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:003525 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 隨著集成電路工藝的不斷突破， 當(dāng)制程節(jié)點持續(xù)向7nm及以下邁進，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已難以滿足高精度、高密度的制造需求，此時，波長13.5nm的極紫外（EUV）光刻技術(shù)逐漸成為支撐
2025-08-17 00:03:004220 ofweek電子工程網(wǎng)訊 國際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
，光源是ArF（氟化氬）準(zhǔn)分子激光器，從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機，但是到了7nm這個節(jié)點已經(jīng)的DUV光刻的極限，所以Intel、三星和臺積電都會在7nm這個節(jié)點引入極紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
這些設(shè)置?1。
?靈活性?：用戶可以根據(jù)需要選擇不同的仿真技術(shù)，如DUV、Immersion、EUV等，并且可以處理嚴格/標(biāo)量、偏振、像差和抗蝕劑模型?1。
?分布式計算支持?：HyperLith支持
2024-11-29 22:18:10
據(jù)羊城晚報報道，近日中芯國際從荷蘭進口的一臺大型光刻機，順利通過深圳出口加工區(qū)場站兩道閘口進入廠區(qū)，中芯國際發(fā)表公告稱該光刻機并非此前盛傳的EUV光刻機，主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
進入10nm工藝節(jié)點之后，EUV光刻機越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機，總價值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價超過1億歐元，可謂價值連城。
2017-01-19 18:22:594096 EUV光刻機的唯一供應(yīng)商ASML在2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展上也表示，250瓦的EUV光源也萬事俱備。公司2017年財報中也強調(diào)，其EUV光刻機滿足了125WPH（每小時生產(chǎn)
2018-01-23 14:51:008666 
隨機變化需要新方法、新工具，以及不同公司之間的合作。 極紫外（EUV）光刻技術(shù)正在接近生產(chǎn)，但是隨機性變化又稱為隨機效應(yīng)正在重新浮出水面，并為這項期待已久的技術(shù)帶來了更多的挑戰(zhàn)
2018-03-31 11:52:006365
據(jù)業(yè)內(nèi)最新消息，全球最大的芯片機器制造商、荷蘭的AMSL證實，中國向荷蘭訂購一臺最新型的使用EUV（極紫外線）技術(shù)的芯片制造機器光刻機，訂貨單位是中芯國際（SMIC）。這也幾乎花掉了中芯國際
2018-05-20 10:32:3714641 在100μm之內(nèi)，離子束的分辨力基本不變。而光學(xué)曝光的焦深只有1～2μm為。她的主要作用就是在電路上進行修補 ，和生產(chǎn)線制成異常分析或者進行光阻切割。
EUV 光刻技術(shù)
在
2018-06-27 15:43:5013171 臺積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝，預(yù)計明年大規(guī)模量產(chǎn)，三星今天宣布量產(chǎn)7nm EUV工藝，這意味著EUV工藝就要正式商業(yè)化了，而全球最大的光刻機公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293872 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:404245 用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet，極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來藍圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術(shù)節(jié)點到今年(2019年，也是從今年開始)，每2年~3年一個階段向新的技術(shù)節(jié)點發(fā)展。
2019-01-21 10:45:563963 
隨著半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)突破設(shè)計尺寸不斷縮小的極限，極紫外 （EUV） 光刻技術(shù)的運用逐漸擴展到大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中。對于 7 納米及更小的高級節(jié)點，EUV 光刻技術(shù)是一種能夠簡化圖案形成工藝的支持技術(shù)。要在如此精細的尺寸下進行可靠制模，超凈的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:372675 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1814886 
芯片行業(yè)從20世紀90年代開始就考慮使用13.5nm的EUV光刻（紫外線波長范圍是10~400nm）用以取代現(xiàn)在的193nm。EUV本身也有局限，比如容易被空氣和鏡片材料吸收、生成高強度的EUV也很困難。
2019-10-01 17:12:009156 11月25日，市場研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾（Robert Castellano）表示：“過去三年來，應(yīng)用材料一直在晶圓制造前段工序（WFE）的設(shè)備市場上失去市場份額，而 ASML卻將憑借其價格高昂的EUV光刻設(shè)備大批出貨實現(xiàn)超越，取代應(yīng)用材料成為最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司。”
2019-11-26 15:06:442524 近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473867 2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來的1/10，大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583930 近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4531024 據(jù)中國證券報報道，3月6日下午從中芯國際獲悉，日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進口了一臺大型光刻機，但這是設(shè)備正常導(dǎo)入，用于產(chǎn)能擴充，并非外界所稱的EUV光刻機。
2020-03-07 10:55:145046 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機，預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:483419 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機，預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:195447 2020年3月25日，三星電子（Samsung Electronics）公開透露，在半導(dǎo)體生產(chǎn)的主要工序中首次采用了新一代“EUV（極紫外線）”光刻設(shè)備的量產(chǎn)線。成為在半導(dǎo)體存儲芯片領(lǐng)域，全球首家使用EUV光刻設(shè)備。
2020-03-30 15:40:133914 與此同時， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓，并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺）。
2020-08-14 11:20:553039 
據(jù)悉，ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機的廠商，年產(chǎn)量為40余臺，臺積電方面希望獲得全數(shù)供應(yīng)。EUV光刻機的價格昂貴，每臺要價約1.3億美元，由于是EUV制程必需的關(guān)鍵設(shè)備，臺積電與三星電子的競爭日益激烈。
2020-10-13 13:51:522542 光刻機，在整個芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)，是最最最核心的設(shè)備，技術(shù)難度極高。在全球光刻機市場，日本的尼康、佳能，和荷蘭的ASML，就占據(jù)了市場90%以上份額。而最高級的EUV（極紫外光）技術(shù)，則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。
2020-10-17 09:49:454287 
ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:4910752 
ASML公司的EUV光刻機全球獨一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:212202 中國需要光刻機，尤其是支持先進制程的高端光刻機。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機。
2020-11-11 10:13:305279 
據(jù)TOMSHARDWARE報道，臺積電表示其部署的極紫外光（EUV）光刻工具已占全球安裝和運行總量的50%左右，這意味著其使用的EUV機器數(shù)量超過了業(yè)內(nèi)其他任何一家公司。為了保持領(lǐng)先，臺積電已經(jīng)下單
2020-11-17 16:03:382413 自從芯片工藝進入到7nm工藝時代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機，目前全球
2020-12-03 13:46:227524 繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機后，三星也坐不住了。 按照三星的說法，自2014年以來，EUV光刻參與的晶圓超過了400萬片，公司積累了豐富的經(jīng)驗，也比其它廠商掌握
2020-12-04 18:26:542674 ？OFweek君根據(jù)公開資料整理出了一些原因，供讀者參考。 與DUV（深紫外光）光刻機相比，EUV光刻機的吞吐量相對較低，每小時可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片－175片之間，技術(shù)改進后，速度可以提升至275片每小時。但相對而言，EUV生產(chǎn)效率還是更高，
2021-02-14 14:05:004746 近期三星為爭搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因為它提供了制造半導(dǎo)體必不可少的“光刻”機器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說，得EUV者得先進工藝。
2021-01-16 10:32:575193 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進的EUV光刻機，三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:185443 ASML公司前兩天發(fā)布了財報，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻
2021-01-22 17:55:243621 隨著半導(dǎo)體工藝進入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:552324 隨著半導(dǎo)體工藝進入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻
2021-02-25 09:30:232709 隨著半導(dǎo)體工藝進入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 11:39:092438 一提起ASML這家公司，就少不了對光刻機問題的討論，因為截至目前，ASML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機廠商。普通的DUV光刻機就不多說了，ASML每年都能賣出去很多臺，而在更先進的EUV光刻機方面，ASML更是占據(jù)了絕對壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:4216218 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:412409 以下內(nèi)容由對話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機產(chǎn)能如何？ ● 晶圓為什么是圓的？ ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別？ ● 什么是邏輯芯片，邏輯芯片又包括哪些？ ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3025243 近日，中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作，有媒體報道稱“除了 EUV 光刻機，中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機?！钡沁@一說法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)。
2021-03-15 09:30:163280 日前，ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機的最新進展。
2021-03-19 09:39:405766 美國媒體7月19日報道，美國政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機（極紫外光刻機）進入中國大陸。 報道稱，中國政府此前與荷蘭政府協(xié)商，要求允許中國公司購買ASML生產(chǎn)的EUV光刻機設(shè)備（極紫外光刻
2021-07-21 16:52:252514 美國華爾街日報7月19日報道，美國政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機（極紫外光刻機）進入中國大陸。 華爾街日報報道稱，中國政府此前與荷蘭政府協(xié)商，要求允許中國公司購買ASML生產(chǎn)的EUV
2021-07-25 17:35:153479 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1012038 EUV光刻技術(shù)為半導(dǎo)體制造商提供一個前所未有的速度開發(fā)最強大芯片的機會。
2022-04-07 14:49:331137 臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:203214 
先進光刻工藝EUV相關(guān)知識，適合對半導(dǎo)體工藝有興趣的人員，或者是從事光刻工藝的工程師
2022-06-13 14:48:23
1 HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻：3400B
?EUV生成原理
?EUV來源：架構(gòu)
?現(xiàn)場EUV源
?電源展望
?總結(jié)
2022-06-13 14:45:450 日前，在臺積電召開的會議上，有一名高管稱臺積電將于2024年引進ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機。 會議中，該高管稱：為了滿足客戶所需的相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā)等，臺積電將于2024年
2022-06-17 16:33:277596 據(jù)CNBC報道稱，世界聞名的先進光刻機智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機。
2022-06-18 08:13:032334 在芯片研發(fā)的過程中，光刻機是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機已經(jīng)不能滿足先進制程了，必須要用最先進的EUV光刻機才能完成7nm及其以下的先進制程，而目前臺積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:128591 中國芯的進步那是有目共睹，我國在光刻機，特別是在EUV光刻機方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3518612 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:078348 如今世界最先進的EUV光刻機，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3852761 DUV已經(jīng)能滿足絕大多數(shù)需求：覆蓋7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的區(qū)別在光源方案。duv的光源為準(zhǔn)分子激光，光源的波長能達到193納米。
2022-07-06 15:56:4867289 EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:445306 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機了?，F(xiàn)在，全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機，那么euv光刻機目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進的光刻機能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4253101 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設(shè)備。沒有光刻機的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:278556 機可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預(yù)計在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:067938 光刻機和euv光刻機區(qū)別是是什么呢？ duv光刻機和euv光刻機區(qū)別 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。 2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內(nèi)部必須是真空操作。 以上就是duv光刻機和euv光刻機區(qū)別了，現(xiàn)在基本都是euv光刻機
2022-07-10 14:53:1087067 euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1018347 光刻機是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等
2022-07-10 16:34:405149 與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn)，更少的隨機效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負膠肯定是沒法用了，DUV光刻機上常用的化學(xué)放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:083923 EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù)，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:027389 光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:056458 號為 CN202110524685.X。這能解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，這個也是 EUV 光刻常見問題。 從介紹中可以看出，該專利提供了一種光刻裝置，通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場在曝光時間內(nèi)的積累光強均勻化，從而達到勻光的目的，繼而
2022-11-21 15:10:073824 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/ 周凱揚 ）到了3nm這個工藝節(jié)點之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。 為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:021848 過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準(zhǔn)分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力，但主要關(guān)注點是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)。
2023-02-02 11:49:593901 挑戰(zhàn)性。制造商正在關(guān)注稱為極紫
外(EUV) 光刻的先進制造技術(shù)。
EUV光刻可用于制造比以前更小規(guī)模的芯片。該技術(shù)可以導(dǎo)致微處理器的發(fā)展，其速度比目前最強大的芯片快十倍。EUV光刻
的本質(zhì)也可以歸因于當(dāng)前芯片印刷技術(shù)的物理限制。
2023-02-15 15:55:294 其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統(tǒng)，再到光掩模，再到對準(zhǔn)系統(tǒng)，再到晶圓載物臺，再到光刻膠化學(xué)成分，再到鍍膜機和顯影劑，再到計量學(xué)，再到單個晶圓。
2023-03-07 10:41:582615 DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。前者采用極紫外光刻技術(shù)，后者采用深紫外光刻技術(shù)。
2023-03-20 14:23:2413751 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過精心設(shè)計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:122944 EUV光刻膠需要具有足夠的耐刻蝕性，以便在后續(xù)的刻蝕過程中保護圖案。為了提高耐刻蝕性，研究人員正在開發(fā)新型刻蝕抑制劑和交聯(lián)劑，以增強光刻膠的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。
2023-05-08 15:21:291287 
EUV光刻技術(shù)仍被認為是實現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:044249 
需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機相比，EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:374919 EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機是一種高級光刻設(shè)備，用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機是目前最先進的光刻技術(shù)之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長
2023-07-24 18:19:472366 隨著制程工藝的進步，DRAM內(nèi)存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題，解決辦法就是上EUV光刻機，但是設(shè)備實在太貴，現(xiàn)在還要榨干DUV工藝最后一滴，DDR5內(nèi)存有望實現(xiàn)單條1TB。
2023-07-31 17:37:071870 
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:021237 EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當(dāng)受到EUV光子照射時會發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:421622 
近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:122263 
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
2024-05-17 17:21:472030 近日，日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)（OIST）發(fā)布了一項重大研究報告，宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外（EUV）光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限，其設(shè)計的光刻設(shè)備能夠采用更小巧的EUV光源，并且功耗僅為傳統(tǒng)EUV光刻機的十分之一，從而實現(xiàn)了能源消耗的顯著降低。
2024-08-03 12:45:362296 據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝，設(shè)備安裝預(yù)計在
2024-12-20 13:48:201498 
芯片制造、價值1.5億美元的極紫外（EUV，https://spectrum.ieee.org/tag/euv）光刻掃描
2025-01-09 11:31:181280 ? EUV光刻有多強？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸？ EUV光刻技術(shù)，存在很多難點。 1.1
2025-02-18 09:31:242258 
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:009691 
其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例，這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進制程芯片 時代，不僅需要EUV光刻機，更需要EUV光刻膠的參與。但在過去 國內(nèi)長期依賴進
2025-10-28 08:53:356236
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