傳統(tǒng)的光刻工藝是相對目前已經(jīng)或尚未應用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進光刻工藝而言的，普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺（見下表）。這是因為 193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術的支撐，可以滿足從 0.13um至7nm 共9個技術節(jié)點的光刻需要。
2022-10-18 11:20:29
17458 芯片制造流程其實是多道工序?qū)⒏鞣N特性的材料打磨成形，經(jīng)循環(huán)往復百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區(qū)域，最后形成數(shù)十億個晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個流程中的一個重要步驟，其實并沒有
2020-09-02 17:38:07
關于
光刻工藝的原理，大家可以想象一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當于膠片，而
光刻機就是沖洗臺，它把掩膜版上的芯片電路一
個個的復制到
光刻膠薄膜上，然后通過刻蝕技術把電路“畫”在晶圓上?！ ‘斎?/div>
2020-07-07 14:22:55
`現(xiàn)在處理一批MA-1200光刻機的零件，有需要的朋友請直接聯(lián)系我：137-3532-3169`
2020-02-06 16:24:39
是分步投影光刻機.利用分步投影光刻機,再結合移相掩膜等技術,已經(jīng)得到了最小線寬0.10微米的圖形?！ 艚咏奖┕馀c接觸式暴光相似,只是在暴光時硅片和掩膜版之間保留有很小的間隙,這個間隙一般在10~25
2012-01-12 10:56:23
如果國家以兩彈一星的精神投入光刻機的研發(fā)制造，結果會怎樣？
2020-06-10 19:23:14
出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機對電子束質(zhì)量的要求。
只有對聚焦電極改進才是最佳選擇，以下介紹該進后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達到縮束的目的，使電子束分布在一條直線
2025-05-07 06:03:45
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關鍵的設備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
光刻機的工作臺是一個六自由度的運動臺，其中X/Y向運動臺是的核心基礎工序。管控XY軸角度Yaw和Pitch，直線度Horizontal Straightness和Vertical
2023-02-20 15:49:07
光刻膠（光敏膠）進行光刻，將圖形信息轉移到基片上，從而實現(xiàn)微細結構的制造。光刻機的工作原理是利用光學系統(tǒng)將光線聚焦到光刻膠上，通過掩膜版（也稱為光刻掩膜）上的圖形
2023-07-07 11:46:07
澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設備，專為半導體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設計。該系統(tǒng)采用先進的場發(fā)射電子槍，結合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量優(yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
光刻膠與光刻工藝技術 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 本文以光刻機為中心，主要介紹了光刻機的分類、光刻機的結構組成、光刻機的性能指標、光刻機的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01166595 
荷蘭作為光刻的生產(chǎn)大國，很多人紛紛都在問為什么荷蘭能生產(chǎn)二中國不行.本文主要分析了中國光刻機的發(fā)展分析以及與荷蘭之間的差距，詳細的說明了荷蘭光刻機為什么厲害，為何光刻機不賣給中國的原因。
2017-12-19 14:56:42126505 光刻是半導體芯片生產(chǎn)流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產(chǎn)的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能
2018-04-08 16:10:52171954 
光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
2018-04-10 09:49:17134949 
光刻機是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設備， 技術含量、價值含量極高。 光刻機涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進技術，是所有半導體制造設備中技術含量最高的設備，因此也具備極高的單臺價值量。
2018-04-10 10:19:4737625 在半導體芯片制造設備中，投資最大、也是最為關鍵的是光刻機，光刻機同時也是精度與難度最高、技術最為密集、進步最快的一種系統(tǒng)性工程設備。光學光刻技術與其它光刻技術相比，具有生產(chǎn)率高、成本低、易實現(xiàn)高的對準和套刻精度、掩模制作相對簡單、工藝條件容易掌握等優(yōu)點，一直是半導體芯片制造產(chǎn)業(yè)中的主流光刻技術。
2018-04-10 11:26:34217055 
，一款芯片往往需要經(jīng)過幾十道光刻工藝，每次都需要使用光刻機把電路的設計圖形做到硅片上去。所以，人們經(jīng)常說到的多少多少納米的工藝節(jié)點，往往就是由光刻機及其相關工藝所決定的或者說它是最核心的一個因素
2018-07-13 17:25:006042 達到理想狀態(tài)，EUV工藝還有很長的路要走。在現(xiàn)有的EUV之外，ASML與IMEC比利時微電子中心還達成了新的合作協(xié)議，雙方將共同研發(fā)新一代EUV光刻機，NA數(shù)值孔徑從現(xiàn)有的0.33提高到0.5，可以進一步提升光刻工藝的微縮水平，制造出更小的晶體管。
2018-10-30 16:28:404245 格芯首席技術官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關鍵。
2019-09-03 17:18:1814886 
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關鍵技術，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。
2019-11-23 10:45:54168874 光刻機是芯片制造最為重要的設備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機。中國一直以來都想掌握光刻機技術，但是上海微電子經(jīng)過17年的努力，才造出90nm的光刻機，這已經(jīng)十分不容易了，這可是0的突破。那么為什么光刻機這么難造呢？
2020-01-29 11:07:008876 眾所周知，說起芯片，大家就會想到光刻機，說起光刻機，大家就會想到ASML。因為在芯片生產(chǎn)中，光刻機特別重要，而ASML又是高端光刻機的壟斷者，占了85%以上的高端市場。
2020-02-20 20:30:456051 經(jīng)常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～
2020-03-15 14:46:00229669 光刻機是芯片制造的重要設備，內(nèi)部結構精密復雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關鍵設備，而且光刻機的技術門檻極高，整個設備的不同部位采用了世界上最先進的技術，如德國的光學設備、美國的計量設備等，可以說是“集人類智慧大成的產(chǎn)物”，被譽為半導體工業(yè)皇冠上的明珠。
2020-03-14 10:58:4881678 ，中國最好的光刻機廠商上海微電子裝備有限公司（SMEE）已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機中，性能最好的SSA600/20工藝只能達到90nm，相當于2004年上市的奔騰四CPU的水準。而國外的先進水平已經(jīng)達到了7納米，正因如此，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
2020-03-18 10:52:1192637 光刻機是集成電路制造中最精密復雜、難度最高、價格最昂貴的設備，用于在芯片制造過程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉移。集成電路在制作過程中經(jīng)歷材料制備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機械研磨等多個工序，其中以光刻工序最為關鍵，因為它是整個集成電路產(chǎn)業(yè)制造工藝先進程度的重要指標。
2020-03-18 11:00:4175540 光刻機是芯片制造的核心設備之一，作為目前世界上最復雜的精密設備之一，其實光刻機除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機，或者是用于LED制造領域的投影光刻機。目前，我國高端的光刻機，基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0247310 我國的光刻機目前能做的只有90nm制程，而荷蘭的ASML 最新EUV工藝光刻機可以做到7nm制程、6nm制程、5nm制程，并且一臺頂級的光刻機需要上萬個零部件，需要不同國家的各個頂級部件，售價也高達7億人民幣。
2020-03-19 16:46:3823747 作為芯片制造的核心設備之一，光刻機對芯片生產(chǎn)的工藝有著決定性影響。 據(jù)悉，光刻機按照用途可分為生產(chǎn)芯片的光刻機、封裝芯片的光刻機以及用于LED制造領域的投影光刻機。其中，生產(chǎn)芯片的High End
2020-06-15 08:05:541506 頂級光刻機有多難搞？ASML的光刻機，光一個零件他就調(diào)整了10年！拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機舉例，其內(nèi)部精密零件多達10萬個，比汽車零件精細數(shù)十倍！
2020-07-02 09:38:3912919 作為半導體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備，光刻機一直牽動人心。事實上，制程工藝越先進就要離不開先進光刻機。
2020-07-07 16:25:043383 根據(jù)所用光源改進和工藝創(chuàng)新，光刻機經(jīng)歷了 5 代產(chǎn)品發(fā)展，每次光源的改進都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。在技術節(jié)點的更新上，光刻機經(jīng)歷了兩次重大變革，在歷次變革中，ASML 都能搶占先機，最終奠定龍頭地位。
2020-08-03 17:04:423305 Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。 光刻（Photolithography） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時復制到硅片上的過程。 一般的光刻工藝要經(jīng)
2020-08-28 14:39:0415066 
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產(chǎn)業(yè)中最關鍵設備，光刻工藝決定了半導體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:136909 
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2020-10-09 11:29:3611493 
在制造芯片的過程中，光刻工藝無疑最關鍵、最復雜和占用時間比最大的步驟。光刻定義了晶體管的尺寸，是芯片生產(chǎn)中最核心的工藝，占晶圓制造耗時的40％到50％。光刻機在晶圓制造設備投資額中約占23％，再
2020-10-09 15:40:112916 光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。
2020-10-16 10:33:39316026 
最近光刻機十分火，我們經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機，但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機，5納米光刻機，我為什么會這樣說呢？
2020-10-19 11:42:5123697 ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:4910752 
導讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關鍵技術，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。 光刻機的工作原理： 利用光刻機
2022-12-23 13:34:5410099 龍頭。 而在上世紀80年代，ASML只是飛利浦和ASM合資的一家小公司。但伴隨著半導體行業(yè)風云變化，短短二十年時間，ASML就將昔日光刻機大國美國和日本拉下神壇。如今，全球7nm及以下工藝的EUV光刻機，只有它能提供。那么，ASML在光刻機領域快
2020-11-13 09:28:516405 中芯國際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm，若想將芯片工藝進一步提升至7nm乃至3nm等先進制程，EUV光刻機設備就必不可少。那么，中芯國際此次12億美元的采購協(xié)議都有哪些類型的光刻機，包含EUV光刻機嗎？
2021-03-10 14:36:5511344 在芯片制造的產(chǎn)業(yè)鏈中，光刻機是必不可少的精密設備，是集成電路芯片制造中最復雜和關鍵的工藝步驟?！拔覈鳨UV光刻機的自主研發(fā)還有很長的路要走，基于SSMB的EUV光源有望解決自主研發(fā)光刻機中最核心的‘卡脖子’難題?！碧苽飨檎f。
2021-03-10 15:45:513609 以下內(nèi)容由對話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機產(chǎn)能如何？ ● 晶圓為什么是圓的？ ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別？ ● 什么是邏輯芯片，邏輯芯片又包括哪些？ ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3025243 用途 光刻機是芯片制造的核心設備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的光刻機
2021-03-30 18:17:272900 
不會有我們現(xiàn)在的手機、電腦了。 光刻機是用于芯片制造的核心設備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機、用于封裝的光刻機和用于LED制造領域的投影光刻機。 光刻機的核心原理就是一個透鏡組，在精度上首先咱們有個概念：我們現(xiàn)在芯片的
2021-07-07 14:31:18130297 光刻機原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個工藝的實施，都需要用到光刻技術?？梢哉f，光刻機是半導體界的一顆明珠。那么光刻機原理怎么做芯片呢
2021-08-07 14:54:5414859 沒有任何一個國家的人比中國人更想造出頂級光刻機。網(wǎng)友甚至表示，只要造出光刻機，無論一個人做錯了什么都可以原諒。
2021-08-26 17:32:3763286 
光刻機作為芯片產(chǎn)業(yè)制造中不可缺少的設備，也是工時和成本占比最高的設備，更是全球頂尖技術和人類智慧的結晶。那么目前有哪些國家可以制造出光刻機呢？
2022-01-03 17:30:0091372 光刻機作為芯片的核心制造設備，也是當前最復雜的精密儀器之一。其實光刻機不僅可以用于芯片生產(chǎn)，還可以用于封裝和用于LED制造領域。
2022-01-03 16:43:0018187 一臺高端的光刻機由上萬個零部件構成，光刻機的主要核心部件主要分為兩個部分：分別是對準系統(tǒng)和紫外光源。
2022-01-03 17:09:0020046 光刻機是芯片制造的重要設備，內(nèi)部結構精密復雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關鍵設備，而且光刻機的技術門檻極高，整個設備的不同部位采用了世界上最先進的技術
2021-12-30 09:46:535114 光刻機制作芯片過程非常復雜，而光刻機是制造芯片最重要的設備之一，由于先進光刻機的技術封鎖，中國芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒有優(yōu)秀的國產(chǎn)光刻機來掌握到最先進的光刻技術。
2021-12-30 11:23:2113196 刻蝕機不能代替光刻機。光刻機的精度和難度的要求都比刻蝕機高出很多，在需要光刻機加工的時候刻蝕機有些不能辦到，并且刻蝕機的精度十分籠統(tǒng)，而光刻機對精度的要求十分細致，所以刻蝕機不能代替光刻機。
2022-02-05 15:47:0044425 光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料，換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0015756 光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機，有用于LED制造領域的光刻機，還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術，然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0090746 眾所周知，光刻機一直處于壟斷地位，在光刻機領域，最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21:15294540 中國芯的進步那是有目共睹，我國在光刻機，特別是在EUV光刻機方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3518612 光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:078348 如今世界最先進的EUV光刻機，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3852761 大家都知道，芯片制造的核心設備之一就是光刻機了。現(xiàn)在，全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機，那么euv光刻機目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進的光刻機能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4253101 是哪個國家的呢？ euv光刻機許多國家都有，理論上來說，芯片強國的光刻機也應該很強，但是最強的光刻機制造強國，不是美國、韓國等芯片強國，而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:278556 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術。 目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:067938 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1087066 光刻機的原理是接近或接觸光刻，通過無限接近，將圖案復制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個點上，通過移動工作臺或透鏡掃描實現(xiàn)任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術，具有效率高、無損傷等優(yōu)點。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工
2022-07-10 15:28:1018347 光刻機是當前半導體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設備，其技術含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設備涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等
2022-07-10 16:34:405149 芯片想必大家都很熟悉，光刻機是是制造芯片的核心裝備，并且光刻機只有一小部分國家擁有，那么光刻機為什么這么難呢？ 據(jù)說越小的東西，建造起來就越困難。 這句話不是沒有道理的。 盡管手機中的芯片只有指甲
2022-07-10 17:37:2210040 光刻機譽為“現(xiàn)代半導體行業(yè)皇冠上的明珠”，是一種高度復雜的設備。光刻機是通過紫外光作為“畫筆”，把預先設計好的芯片電路路線書寫在硅晶圓旋涂的光刻膠上，光刻工藝直接決定了芯片中晶體管的尺寸和性能，是芯片生產(chǎn)中最為關鍵的過程。
2022-10-27 09:39:024799 是的！光刻機本身的原理，其實和相機非常相似，同學們可以把光刻機就想成是一臺巨大的單反相。機。相機的原理，是被攝物體被光線照射所反射的光線，透過相機的鏡頭，將影像投射并聚焦在相機的底片（感光元件）上， 如此便可把被攝物體的影像復制到底片上。
2022-11-21 10:03:068553 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）盡管ASML作為目前占據(jù)主導地位的光刻機廠商，憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵，主導著半數(shù)以上的市場份額，但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機
2022-11-24 07:10:035174 利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2022-12-01 09:32:116988 光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現(xiàn)高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
2023-06-09 10:49:2012393 
光刻機是集成電路生產(chǎn)的關鍵設備之一，在整個生產(chǎn)過程中占據(jù)重要的地位。高精度的工作臺作為光刻機核心部件之一，其運動性能和定位精度決定了光刻工藝所能實現(xiàn)的線寬和產(chǎn)率。光刻機的工作臺是一個六自由度的運動臺
2022-03-08 09:07:461789 
光刻是半導體芯片生產(chǎn)流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產(chǎn)的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:535496 
半導體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:543038 
光照條件的設置、掩模版設計以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度，ASML認為其物理極限在0.25，k?體現(xiàn)了各家晶圓廠運用光刻技術的水平。
2023-12-18 10:53:052730 
光刻與光刻機
?對準和曝光在光刻機(Lithography Tool)內(nèi)進行。
?其它工藝在涂膠顯影機(Track)上進行。
光刻機結構及工作原理
?光刻機簡介
?光刻機結構及工作原理
2023-12-19 09:28:001403 
光刻機是微電子制造的關鍵設備，廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中，光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:2410376 
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:189618 光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影光刻機和極紫外式光刻機。
2024-03-21 11:31:4110787 
在萬物互聯(lián)，AI革命興起的今天，半導體芯片已成為推動現(xiàn)代社會進步的心臟。而光刻(Lithography)技術，作為先進制造中最為精細和關鍵的工藝，不管是半導體芯片、MEMS器件，還是微納光學元件都離不開光刻工藝的參與，其重要性不言而喻。本文將帶您一起認識光刻工藝的基本知識。
2024-08-26 10:10:073247 
“ 光刻作為半導體中的關鍵工藝，其中包括3大步驟的工藝：涂膠、曝光、顯影。三個步驟有一個異常，整個光刻工藝都需要返工處理，因此現(xiàn)場異常的處理顯得尤為關鍵”
2024-10-22 13:52:103498 ? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關重要的地位，被譽為芯片制造的核心設備
2024-11-24 09:16:387674 ?? 光刻掩膜簡介 ?? ? 光刻掩膜（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，通常簡稱“mask”，是半導體制造過程中用于圖案轉移的關鍵工具，對于光刻工藝的重要性不弱于光刻機、光刻
2025-01-02 13:46:225050 
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達到
2025-01-07 10:02:304530 
光刻是芯片制造過程中至關重要的一步，它定義了芯片上的各種微細圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機
2025-01-28 16:36:003594 
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:456363 
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
2025-01-20 09:44:182477 
光刻機用納米位移系統(tǒng)設計
2025-02-06 09:38:031030 
在芯片制造的復雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說，它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254473 
的基礎，直接決定了這些技術的發(fā)展水平。 二、顯影在光刻工藝中的位置與作用 位置：顯影是光刻工藝中的一個重要步驟，在曝光之后進行。 作用：其作用是將曝光產(chǎn)生的潛在圖形，通過顯影液作用顯現(xiàn)出來。具體而言，是洗去光刻
2025-06-09 15:51:162129 光刻工藝是芯片制造的關鍵步驟，其精度直接決定集成電路的性能與良率。隨著制程邁向3nm及以下，光刻膠圖案三維結構和層間對準精度的控制要求達納米級，傳統(tǒng)檢測手段難滿足需求。光子灣3D共聚焦顯微鏡憑借非
2025-08-05 17:46:43946 
系列。該系列產(chǎn)品主要面向mini/micro LED光電器件、光芯片、功率器件等化合物半導體領域，可靈活適配硅片、藍寶石、SiC等不同襯底材料，滿足多樣化的膠厚光刻工藝需求。 WS180i系列光刻機優(yōu)勢顯著。其晶圓覆蓋范圍廣，可處理2~8英寸的晶圓；分
2025-10-10 17:36:33931 
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
湘ICP備2023018690號-1
評論